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脈沖電沉積Ni-SiC納米復(fù)合鍍層耐磨性的研究
關(guān)鍵詞：脈沖電沉積 耐磨性
摘要：采用脈沖電沉積方法在A3鋼表面制備了Ni-SiC納米復(fù)合鍍層。分別采用掃描電鏡、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)及X射線衍射儀分析了鍍層的磨損形貌、耐磨性及物相組成。結(jié)果表明:鍍層的磨損量分別在電流密度為2.0 A/dm^2、脈沖占空比為40%、納米SiC微粒的質(zhì)量濃度為7 g/L時(shí)達(dá)到最小值。另外,在電流密度為2.0 A/dm^2、脈沖占空比為40%、納米SiC微粒的質(zhì)量濃度為7 g/L的條件下所得鍍層的磨損形貌較好,磨損機(jī)制主要表現(xiàn)為磨粒磨損。在該條件下,Ni和SiC的衍射峰較寬,有利于細(xì)化晶粒,顯著增強(qiáng)鍍層的性能。
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