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SiCf/SiC復(fù)合材料氮化硼(BN)界面層及其復(fù)合界面層研究進(jìn)展

呂曉旭; 齊哲; 趙文青; 姜卓鈺; 楊金華; 周怡然; 劉虎; 焦健 中國(guó)航發(fā)北京航空材料研究院先進(jìn)復(fù)合材料國(guó)防科技重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 北京100095; 北京理工大學(xué)材料學(xué)院; 北京100081

關(guān)鍵詞:化學(xué)氣相滲透 bn界面層 復(fù)合界面層 

摘要:SiC_f/SiC復(fù)合材料由SiC纖維、SiC基體和界面層組成。界面層可以傳遞載荷和偏轉(zhuǎn)裂紋,同時(shí)防止SiC纖維受到材料制備和使用過(guò)程中的化學(xué)侵蝕,對(duì)于調(diào)節(jié)SiC_f/SiC復(fù)合材料的性能具有非常重要的作用。本文綜述了氮化硼界面層的晶體結(jié)構(gòu)、復(fù)合界面層的種類,介紹了化學(xué)氣相滲透法制備氮化硼(boron nitride,BN)及其復(fù)合界面層的工藝條件,總結(jié)了先驅(qū)體氣體比例、載氣、沉積壓力及溫度等工藝條件對(duì)界面層沉積速率、微觀形貌結(jié)構(gòu)的影響。選擇合適的工藝條件,制備理想結(jié)構(gòu)的BN及其復(fù)合界面層,將是SiC_f/SiC復(fù)合材料界面層研究領(lǐng)域的重點(diǎn)和難點(diǎn)。

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