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Plasma Chemistry And Plasma Processing

  • ISSN：0272-4324

  • E-ISSN：1572-8986

  • H-index指數(shù)：57

  • 文章自引率：0.08...

  • 影響因子：2.6

  • 年發(fā)文量：123

  • 研究類文章占比：95.12%

  • 開源占比：0.09...

  • OA被引用占比：0.08...

等離子化學和等離子處理 SCIE

Plasma Chemistry And Plasma Processing

  • 國際簡稱：PLASMA CHEM PLASMA P

  • 出版周期：Quarterly

  • 研究方向：工程技術(shù) - 工程：化工

  • 出版語言：English

  • 創(chuàng)刊時間：1981

  • 是否預警：否

  • 出版地區(qū)：UNITED STATES

  • 是否 OA：未開放

期刊介紹

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》(《等離子化學和等離子處理》)是一本由Springer US出版的工程技術(shù)-工程：化工學術(shù)刊物，主要刊載工程技術(shù)-工程：化工相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實踐，旨在打造一種學術(shù)水平高、可讀性強、具有全球影響力的學術(shù)期刊。本刊已入選SCIE來源期刊。該刊創(chuàng)刊于1981年，出版周期Quarterly。2023年發(fā)布的影響因子為2.6。

服務流程:

期刊簡介

Magazine introduction

等離子化學和等離子處理（Plasma Chemistry And Plasma Processing）在中科院分區(qū)中位于3區(qū)，JCR分區(qū)位于Q2。審稿速度一般為 較慢,6-12周 ，且近兩年沒有被列入國際預警名單，您可以放心投稿。如果您需要投稿指導，可在線咨詢我們的客服老師，我們將竭誠為您服務。

本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創(chuàng)論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應用（包括等離子體醫(yī)學和農(nóng)業(yè)）、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關(guān)的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。

中科院SCI分區(qū)

Magazine introduction

2023年12月升級版

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否

2022年12月升級版

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否

2021年12月舊的升級版

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否

2021年12月基礎版

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū) 否 否

2021年12月升級版

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否

2020年12月舊的升級版

大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否

分區(qū)表升級版：旨在解決期刊學科體系劃分與學科發(fā)展以及融合趨勢的不相容問題。升級版有如下優(yōu)勢：一是論文層級的主題體系既能體現(xiàn)學科交叉特點，又可以精準揭示期刊載文的多學科性；二是采用“期刊超越指數(shù)”替代影響因子指標，解決了影響因子數(shù)學性質(zhì)缺陷對評價結(jié)果的干擾。整體而言，分區(qū)表升級版（試行）突破了期刊評價中學科體系構(gòu)建、評價指標選擇等瓶頸問題，能夠更為全面地揭示學術(shù)期刊的影響力，為科研評價“去四唯”提供解決思路。相關(guān)研究成果經(jīng)過國際同行的認可，已經(jīng)發(fā)表在科學計量學領(lǐng)域國際重要期刊。

JCR 分區(qū)

Magazine introduction（2023-2024年最新版）

按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8%
學科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3%
按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13%
學科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75%

JCR：JCR沒有設置大類，只分為176個具體學科，按當期（1年）的影響因子進行分區(qū)；JCR是按照“平均主義”思想，根據(jù)刊物IF的高至低平均劃分4個區(qū)，每個區(qū)含有該領(lǐng)域總量25%的期刊。中科院的分區(qū)如同社會階層的金字塔結(jié)構(gòu)，1區(qū)只有5%的頂級期刊，2~4區(qū)期刊數(shù)量也逐層增加,所以中科院的1區(qū)和2區(qū)雜志很少，雜志質(zhì)量相對也高，基本都是本領(lǐng)域的頂級期刊。

統(tǒng)計數(shù)據(jù)

Magazine introduction

影響因子歷年變化趨勢

CiteScore歷年變化趨勢

中科院JCR分區(qū)歷年變化趨勢

引文指標和發(fā)文量歷年變化趨勢

自引數(shù)據(jù)歷年變化趨勢

影響因子：表示一種雜志的被引用頻率，是國際上通用的期刊評價指標，它不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標。

CiteScore：是影響因子最強有力的競爭者，是衡量期刊影響力的一個指標,由愛思維爾于2020年發(fā)布，旨在讓人們更細致地了解影響力對研究和期刊的意義。

CiteScore（2024年最新版）

CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數(shù)
5.9 0.48 0.912
學科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics Q1 108 / 434

75%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132

74%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemical Engineering Q2 79 / 273

71%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemistry Q2 119 / 408

70%

TOP期刊

常見問題

Magazine introduction

Plasma Chemistry And Plasma Processing

等離子化學和等離子處理定制服務方案，SCI檢索

免責聲明

Magazine introduction

若用戶需要出版服務，請聯(lián)系出版商，地址：SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。