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國(guó)際簡(jiǎn)稱：CONTRIB ASTRON OBS S
中科院分區(qū)：4區(qū)
出版社：Astronomical Institute, Slovak Academy of Sciences
JCR分區(qū)：Q4
創(chuàng)刊時(shí)間：1955
影響因子：0.4
是否預(yù)警：否
CiteScore：1.1
大類學(xué)科：物理與天體物理 小類學(xué)科：ASTRONOMY & ASTROPHYSICS
國(guó)際簡(jiǎn)稱：MICROELECTRON INT
出版社：Emerald Group Publishing Ltd.
創(chuàng)刊時(shí)間：1982
影響因子：0.7
CiteScore：1.9
大類學(xué)科：工程技術(shù) 小類學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
國(guó)際簡(jiǎn)稱：INT J FOUND COMPUT S
出版社：World Scientific Publishing Co. Pte Ltd
創(chuàng)刊時(shí)間：1990
影響因子：0.6
CiteScore：1.6
大類學(xué)科：計(jì)算機(jī)科學(xué) 小類學(xué)科：COMPUTER SCIENCE, THEORY & METHODS
國(guó)際簡(jiǎn)稱：J SYST SCI SYST ENG
出版社：Springer Berlin Heidelberg
JCR分區(qū)：Q3
創(chuàng)刊時(shí)間：2003
影響因子：1.7
CiteScore：2.7
大類學(xué)科：管理學(xué) 小類學(xué)科：OPERATIONS RESEARCH & MANAGEMENT SCIENCE
國(guó)際簡(jiǎn)稱：REGUL CHAOTIC DYN
出版社：Pleiades Publishing
創(chuàng)刊時(shí)間：2007
影響因子：0.8
CiteScore：2.5
大類學(xué)科：數(shù)學(xué) 小類學(xué)科：MATHEMATICS, APPLIED
國(guó)際簡(jiǎn)稱：J COSMET LASER THER
出版社：Informa Healthcare
創(chuàng)刊時(shí)間：2001
影響因子：1.2
大類學(xué)科：醫(yī)學(xué) 小類學(xué)科：DERMATOLOGY
國(guó)際簡(jiǎn)稱：LANDSC ECOL ENG
出版社：Springer Japan
JCR分區(qū)：Q2
創(chuàng)刊時(shí)間：2005
CiteScore：3.5
大類學(xué)科：環(huán)境科學(xué)與生態(tài)學(xué) 小類學(xué)科：BIODIVERSITY CONSERVATION
國(guó)際簡(jiǎn)稱：PSYCHOSOMATICS
出版社：American Psychiatric Publishing Inc.
創(chuàng)刊時(shí)間：1960
影響因子：--
CiteScore：3.2
大類學(xué)科：醫(yī)學(xué) 小類學(xué)科：PSYCHIATRY
國(guó)際簡(jiǎn)稱：INT J HUM ROBOT
創(chuàng)刊時(shí)間：2004
影響因子：0.9
大類學(xué)科：計(jì)算機(jī)科學(xué) 小類學(xué)科：ROBOTICS
國(guó)際簡(jiǎn)稱：ALLERGY ASTHMA CL IM
出版社：BioMed Central
影響因子：2.6
CiteScore：4.7
大類學(xué)科：醫(yī)學(xué) 小類學(xué)科：ALLERGY
國(guó)際簡(jiǎn)稱：WOUND MANAG PREV
出版社：HMP Communications
創(chuàng)刊時(shí)間：2019
影響因子：1
CiteScore：1.7
國(guó)際簡(jiǎn)稱：IETE J RES
出版社：Taylor and Francis Ltd.
創(chuàng)刊時(shí)間：1997
影響因子：1.3
CiteScore：3.3
大類學(xué)科：計(jì)算機(jī)科學(xué) 小類學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
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