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單層二硫化鉬的電化學(xué)嵌鋰及液相剝離制備工藝研究

陳文書; 顧佳俊 上海交通大學(xué)金屬基復(fù)合材料國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 上海200240

關(guān)鍵詞:二硫化鉬 電化學(xué)嵌鋰 嵌鋰截止位置 液相剝離 剝離溶液 

摘要:二維過渡金屬硫?qū)倩镌诖呋?、?chǔ)能、傳感、生物醫(yī)用等方面具有重要的應(yīng)用前景。二維過渡金屬硫?qū)倩锏目煽刂苽渲苯雨P(guān)系到其基本物性、性能及應(yīng)用。本研究以二硫化鉬(MoS2)為研究對(duì)象,研究了MoS2在電化學(xué)嵌Li過程中嵌Li截止位置及后續(xù)液相剝離的溶液對(duì)嵌Li后的MoS2的物相結(jié)構(gòu)及剝離效果的影響。研究結(jié)果表明,MoS2的電化學(xué)嵌Li應(yīng)截止在0.6V以上,過度嵌Li會(huì)導(dǎo)致MoS2發(fā)生分解反應(yīng)。嵌Li后的MoS2在液相剝離時(shí),選擇水為剝離溶液可獲得最佳的剝離效果。利用透射電子顯微鏡分析了制備獲得的MoS2納米片的微觀形貌和晶體結(jié)構(gòu),結(jié)果表明納米片的單層比例高,結(jié)晶性好。本研究可進(jìn)一步促進(jìn)二維過渡金屬硫?qū)倩锏囊合喾ㄖ苽浼跋嚓P(guān)應(yīng)用的研究。

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